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三星新建5nm晶圓廠:先進EUV技術(shù) 2021年投產(chǎn)

三星新建5nm晶圓廠:先進EUV技術(shù)
2020-05-22 17:33 來源: 編輯:快科技 瀏覽量:0

隨著時間邁入2020年中,以臺積電和三星為代表的芯片半導(dǎo)體也從7nm逐步向5nm進發(fā),實際上麒麟1020和蘋果A14芯片就是基于臺積電5nm工藝,表現(xiàn)相較7nm將會更上一層樓。

很明顯在7nm時代,三星是落后于臺積電的,不過這家巨頭似乎想在5nm時代彎道超車,近日據(jù)媒體報道,三星宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠。

該工廠是三星在韓國國內(nèi)的第六條晶圓代工產(chǎn)線,將應(yīng)用先進的極紫外光微影(ExtremeUltravioletlithography,EUV)制程技術(shù),拿7nmEUV工藝對比,三星5nmEUV工藝的性能提升10%,功耗降低了20%,邏輯面積效率提升25%。

三星表示這座工廠將于2021年下半年投產(chǎn),產(chǎn)品主要應(yīng)用于5G網(wǎng)絡(luò)和高效能運算方面。

三星的野心不止于此,在規(guī)劃中的3nm時代,三星果斷拋棄了FinFET,押寶GAA環(huán)繞柵極晶體管技術(shù),試圖反超臺積電。

原文地址:https://news.mydrivers.com/1/690/690576.htm
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